به گزارش خبرآنلاین و به نقل از ایسنا، یک گزارش جدید از رویترز نشان میدهد که محققان چینی موفق به تولید نمونه اولیه یک دستگاه برجسته برای ساخت تراشههای نیمهرسانا شدهاند که به تقویت هوش مصنوعی کمک خواهد کرد.
بنابر اطلاعات کسب شده، تیمی در شهر شنژن اوایل سال جاری نمونه اولیه یک دستگاه لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) را به پایان رسانده و اینک مراحل آزمایش آن را طی میکند. این دستگاه توسط مهندسان سابق شرکت هلندی ASML، که تأمینکننده اصلی فناوری نیمههادی است، ساخته شده است.
این گزارش همچنین اشاره میکند که چین قصد دارد از سال ۲۰۲۸ تولید تراشههای فرابنفش خود را آغاز کند، اگرچه برخی کارشناسان انتظار دارند که این تاریخ به سال ۲۰۳۰ موکول شود.
فناوری EUV به عنوان یکی از پیچیدهترین فناوریها شناخته میشود و در ساخت تراشههای شرکتهایی نظیر اینتل و TSMC به کار میرود. به همین دلیل، هر شرکتی که بخواهد در این عرصه رقابت کند، به دسترسی به این فناوری نیاز دارد.
اگرچه نمونه اولیه چینی تاکنون تراشه تولید نمیکند، اما قادر به تولید نور فرابنفش شدید برای این منظور است. در صورت تأیید این خبر، این پیشرفت میتواند چین را به موقعیتی بالاتر از آنچه که تحلیلگران پیشبینی کرده بودند، برساند.
علاوه بر این، به دلیل محدودیتهای اعمال شده از سوی ایالات متحده، فناوری EUV عمدتاً از شرکتهای غربی دور نگه داشته شده و به عنوان ابزاری در مذاکرات سیاسی استفاده میشود. از این رو، شی جین پینگ، رئیسجمهور چین، تولید نیمههادیهای داخلی را به عنوان یک اولویت مهم تلقی کرده است.
یک منبع آگاه به رویترز اعلام کرده است که هدف نهایی چین این است که تراشههای پیشرفته را در دستگاههایی که به طور کامل در چین ساخته شدهاند، قرار دهد و به این ترتیب ایالات متحده را از زنجیره تأمین جهانی حذف کند.
